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李永良;
北京师范大学分析测试中心;
真空度; Ti膜; 结构; 氧含量;
机译:沉积参数对r的AISI 316L基材上Ti / TiN薄膜结构,机械和电化学性能的影响。 F。 磁控溅射
机译:射频磁控溅射功率对Ti6Al4V薄膜结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射功率对Ti6A14V薄膜结构和光学性能的影响
机译:Ti溅射电流对反应性DC磁控磁控溅射制备的TiCrn薄膜结构的影响
机译:真空度对生菜真空冷却的影响。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:射频磁控溅射功率对Ti6Al4A薄膜结构和光学性能的影响
机译:钛和钛合金的表面特征。第三部分。实验室化学处理对Ti(c.p。)和Ti-8mn的影响。
机译:更换样品后可减少时间和成本损失的真空室门阀,可重置真空室的真空度
机译:样品室,用于在平板平行培养板上的平板锥流变仪中分析对细胞培养的影响,该样品室包括带有阻挡层的培养板,该阻挡层被细胞粘附分子或融合蛋白片段占据
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