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周志峰; 张小敏; 毛勤卫; 董国材;
常州市计量测试技术研究所;
江苏 常州 213149;
CVD法制备; 石墨烯; 层数; 标准样品;
机译:使用冷壁CVD反应器快速增长大面积高品质石墨烯
机译:使用冷壁CVD反应器实现大面积高质量石墨烯的快速生长
机译:使用冷壁式CVD设备制备锂掺杂的氧化锌薄膜
机译:冷壁CVD用乙醇作为前体对冷壁CVD碳单丝进行热解涂层的研究
机译:冷壁化学气相沉积法在负载型铜催化剂上单层石墨烯的成核和生长
机译:在C-CR合金(L-605)的冷壁CVD工艺中获得的石墨烯涂层用于医疗应用
机译:垂直冷壁CVD法研究单层石墨烯快速生长研究
机译:通过光频梳制备,检测和控制超冷分子。
机译:使用化学还原法和压力辅助热还原法的还原性氧化石墨烯膜的制备方法,由其制备的还原性氧化石墨烯膜和包括该还原性氧化石墨烯膜的石墨烯电极
机译:制备石墨烯的方法,制备石墨烯的原子层石墨烯的方法,包含晶片熔融法的石墨烯弯曲晶体管和石墨烯弯曲晶体管
机译:制备石墨烯膜的方法和均一化石墨烯膜层数的方法
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