AMAT发布采用UV固化技术的low-k成膜设备

摘要

美国应用材料公司（AMAT）日前发布了面向45nm工艺（hp65）、能够形成相对介电常数为2．5的低介电常数（low-k）膜的CVD设备“Applied Produeer Black DiamondⅡ”。