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微粒场全息术中记录介质的选择和处理研究

     

摘要

针对微粒场全息记录的特点,讨论了记录介质的分辨率和记录介质大小的选择;分析了全息记录介质的感光成像原理,对激光能量的高斯分布和曝光量对微粒场记录的影响进行了研究,给出了光束位置和曝光量对实验的影响结果,并对选用的3种记录介质在给定的处理工艺下的特性曲线进行了对比测试;选定的SY-2型记录介质,记录微粒场时适宜的曝光量为180μJ/cm2.

著录项

  • 来源
    《激光技术》|2005年第6期|617-619638|共4页
  • 作者单位

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,流体物理研究所,冲击波物理与爆轰波物理实验室,绵阳,621900;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 全息光学;
  • 关键词

    信息光学; 记录介质; 高斯光束; 曝光量; 微粒场全息;

  • 入库时间 2022-08-18 03:11:31

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