Ag负载对N掺杂TiO_2薄膜光催化性能的影响

摘要

采用电泳沉积法在Ti片上制备TiN薄膜,在450℃下保温60min制备N掺杂TiO_2薄膜(N-TiO_2薄膜),然后在不同浓度的AgNO3溶液中利用光还原沉积法制备负载Ag的N-TiO_2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)对薄膜进行表征,通过测试瞬态光电流密度研究薄膜的光电性能,并以罗丹明B为降解目标物评价薄膜的光催化活性,重点研究了负载Ag对N-TiO_2薄膜光电和光催化性能的影响规律。结果表明:AgNO_3溶液浓度为0.05mol·L-1时,Ag的负载量最为适宜,N-TiO_2薄膜的光电及光催化性能最佳;负载Ag的N-TiO_2薄膜在可见光下的瞬态光电流密度约为N-TiO_2薄膜的5.4倍;负载Ag显著提高了N-TiO_2薄膜的光催化性能,经过可见光照射180min后,薄膜对罗丹明B的降解率达到98%。