FTW150K高比容钽粉研制的低压高容量钽电解电容器氧化膜的修补

摘要

对FTW150K高比容钽粉研制的低压高容量钽电解电容器氧化膜的修补工艺条件进行研究,在一定温度和电压下,经过老化方法修补受损的氧化膜和淘汰早期失效的样品,讨论了老化电压、老化温度及老化时间对样品电性的影响。通过结合回流焊数据分析发现,在相对条件下,最佳工艺:老化电压为1.2倍(低),老化温度为85℃(居中),老化时间为5 h,可使氧化膜得到很好地修补。