水合碳铝酸钙的合成及高浓度铝酸钠溶液二段脱硅的研究

摘要

在高浓度氧化铝溶液二段脱硅中,使用HCAC(水合碳铝酸钙)作为晶种,研究反应时间、HCAC用量、氧化钙烧制温度、碳酸钠用量对脱硅效果的影响.高浓度铝硅酸钠溶液脱硅时,HCAC的最佳合成条件:用600℃烧制的1.5gCaO与2.5g碳酸钠反应制备HCAC;最佳脱硅条件:在200mL含硅铝钠溶液中HCAC加入量为7.0g,脱硅时间为2h,脱硅效果较好,硅量指数可达1000以上,基本上可以满足氧化铝生产实践要求.