套作夏玉米根系数量与活性的空间分布及变化规律

摘要

本文在小麦‖早春玉米/夏玉米超高产种植体系下,研究了套作夏玉米根系数量与活性的空间分布及变化规律,主要结果:(1) 套作夏玉米于开花期达到最大根深160 cm左右,且120～160 cm深层根量持续增长至蜡熟末期.(2) 根系数量呈上多下少的"T"型分布,0～20、20～80、80～120及120～160 cm土层分别为根系高密度区、中密度区、低密度区和稀密度区.0～20、20～40及40～80 cm土层根量密度大致于开花灌浆期达到最大值,之后呈下降趋势;80～120 cm及120～160 cm土层分别于灌浆期和蜡熟末期达最大;0～160 cm整体根量密度以灌浆期为最大.(3) 根系活性在土体中与数量相反呈倒"T"型分布.随生育进程推进,不同土层根系活性呈小→大→小变化,并且根系最高活性位点呈下移趋势,拔节期以20～40 cm土层最高、大口期和开花期以80～120 cm最高、灌浆期和蜡熟末期以120～160 cm最高.0～160 cm整体根系平均以大口期活性最高.(4) 根系TTC还原总量在土体中呈上高下低的"T"型分布,根据TTC还原总量和总量密度高低,0～20、20～120和120～160 cm土层分别为高量高密度区、中量中密度区和低量低密度区.从动态看,120 cm以上各土层根系TTC还原总量及总量密度于花期达最大值,120～160 cm深层土壤于灌浆期达最大值.0～160 cm整体根系的TTC还原总量及总量密度以开花期为最高.