青蒿的离体快繁技术研究

摘要

以青蒿的带芽嫩茎为外植体,研究了0.1%的升汞在不同消毒时间的消毒效果,不同浓度的植物生长调节剂对相同外植体的不定芽诱导、生根的影响。结果表明:0.1%的升汞的消毒时间为8 min时污染率明显较高,消毒时间为10 min时会给外植体造成严重伤害,使其不能继续生长,消毒时间在9 min左右效果最佳。青蒿茎段丛生芽诱导培养基为MS+6-BA 1mg/L+IBA0.1mg/L,不定芽诱导率高达100%。生根培养基为1/4MS+IBA1.5mg/L+NAA0.1mg/L,生根率可以达到90%以上,生根数量多且根系粗壮。