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高压低温制备硅材料的性能研究

     

摘要

研究了用高压低温法制备的硅材料的性能.进行了不同的温度条件下制备陶瓷硅材料的实验研究,获得了最佳的制备条件.用XRD分析了材料的物相;阿基米德法测量了制备材料的密度;对材料的电阻率和硬度进行了测量.结果表明:用高压低温方法可以制备出无氧化相存在的陶瓷硅材料,其最佳的烧结温度为600℃;样品具有较好的机械强度和硬度,获得了适于制备多晶硅薄膜的衬底材料.

著录项

  • 来源
    《功能材料》|2003年第2期|170-172|共3页
  • 作者单位

    四川大学,物理系,辐射物理及技术国家教育部重点实验室,四川,成都,610064;

    云南师范大学,太阳能研究所,云南,昆明,650092;

    四川大学,物理系,辐射物理及技术国家教育部重点实验室,四川,成都,610064;

    四川大学,物理系,辐射物理及技术国家教育部重点实验室,四川,成都,610064;

    云南师范大学,太阳能研究所,云南,昆明,650092;

    云南师范大学,太阳能研究所,云南,昆明,650092;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 太阳能转换装置和设备;
  • 关键词

    陶瓷硅材料; 性能; 高压; 低温;

  • 入库时间 2022-08-17 16:31:49

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