遮阴处理下麻竹苗期光响应特性及最适模型比较

摘要

通过对不同遮阴处理下麻竹光合—光响应曲线及其最适拟合模型的研究,探究不同光响应模型对麻竹光合特性的适用性和遮阴环境下的光能利用能力,为麻竹笋栽培和管理提供依据.以3年生麻竹实生苗为研究对象,设置5种遮阴处理,分别为自然光照的100％(对照)、40％、30％、20％和10％,测定不同遮阴处理下麻竹叶片光响应曲线,并选用直角双曲线模型、非直角双曲线模型、直角双曲线修正模型和指数模型等4种模型对光响应曲线进行拟合.结果表明:不同遮阴处理下,麻竹净光合速率(Pn)均随着光合有效辐射(PAR)的增强而增大;在同一 PAR水平下,Pn随着光照强度下降而升高.在不同遮阴处理下,非直角双曲线模型和直角双曲线修正模型的相关系数(R2)最大,平均绝对误差和均方误差最小,两种模型的匹配度和精确度最高.直角双曲线修正模型对光响应曲线拟合的结果表明,与全光照对比,其他4种遮阴处理下的光补偿点和暗呼吸速率均减小,最大Pn均增大,初始量子效率(α)随着光照强度降低呈先下降后上升的趋势,光饱和点(LSP)与α呈相反的变化趋势,20％和30％光照处理下的LSP达到最大值(2 466.379和2 647.497 μmol·m-2·s-1)综上,麻竹在弱光下具有一定的适应性,在20％和30％光照处理下表现出较高的光照利用能力.