纳米CuO离子化水平及其对细胞毒性影响观察

摘要

目的 试验测评纳米Cu O在体外培养条件下离子化水平及其对细胞毒性贡献率。方法 粒径为40和200 nm的近球型Cu O纳米颗粒（Cu O-NPs）用于测试。以超滤离心滤过液中铜元素的含量代表Cu O-NPs的离子化水平。ICP-MS方法用于铜元素含量测定。细胞毒性试验设Cu O-NPs（40和200 nm粒径）组、Cu SO4组、HPMC组和无处理组。在添加和不添加D-青霉胺（D-PA）情况下给A549细胞染毒,分别于染毒后6和24 h采用刃天青法测算细胞抑制率（IR）并计算离解铜离子对细胞毒性贡献率。结果在Cu O-NPs-DMEM/F12体系中,40和200 nm Cu O-NPs在孵育6 h时滤过液中铜离子测定浓度分别为（3.6±0.1）和（2.8±0.2）mg/L,在孵育24 h滤过液中铜离子测定浓度分别为（3.9±0.1）和（1.8±0.1）mg/L,上述两个时间点下40 nm Cu O-NPs滤过液中铜离子测定浓度均显著高于200 nm Cu O-NPs（P〈0.05）。细胞毒性试验结果显示,在添加D-青霉胺情况下,40和200 nm Cu O-NPs对A549细胞作用6 h的细胞抑制率分别是64.7%和47.2%,作用24 h的细胞抑制率分别是87.5%和70.9%。在不添加D-青霉胺情况下,40和200 nm Cu O-NPs对A549细胞作用6 h的细胞抑制率分别是90.3%和69.4%,作用24 h的细胞抑制率分别是95.2%和86.0%。求得40和200 nm Cu O-NPs对A549细胞作用6 h的离子化毒性贡献率分别为28.3%和32.0%,作用24 h的离子化毒性贡献率分别为8.1%和17.6%。结论 Cu O-NPs在体外培养体系中发生离子化现象,离子化水平与Cu O-NPs粒径和时间有关。离子化对Cu O-NPs细胞毒性具有一定贡献。