Fe_(3)O_(4)外延薄膜的制备与显微结构表征

摘要

本文利用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Fe_(3)O_(4){001}和{111}两种薄膜。Fe_(3)O_(4){001}薄膜是在SrTiO_(3){001}基片上通过PLD沉积直接生长的(直接生长法),而Fe_(3)O_(4){111}薄膜是通过在SrTiO_(3){111}基片上PLD沉积Fe_(2)O_(3){0001}薄膜后,再通过高温还原反应而获得(还原法)。XRD和XPS的研究结果表明Fe_(3)O_(4){001}和{111}薄膜均为高纯度的单晶薄膜。透射电镜显微结构表征的结果表明,由还原法制备的Fe_(3)O_(4){111}薄膜具有较高的质量,其反相畴界密度比直接生长法制备的Fe_(3)O_(4){001}薄膜降低,主要为夹角是60°或120°的{110}型反相畴界。磁光克尔效应测试的结果表明,还原法制备的Fe_(3)O_(4){111}薄膜具有较小的矫顽力(530 Oe)和较大的饱和磁化强度。