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简析0.18μm CMOS反相器的主要工艺流程

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虽然集成电路制造工艺在快速发展,但始终都是以几种主要的制造工艺为基础.文章介绍了0.18μmCMOS反相器的主要工艺流程,并对集成电路的主要制造工艺作了简要分析.

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来源
《常州工学院学报》 |2009年第1期|37-40,44|共5页
作者
邵春声;
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作者单位

常州工学院电子信息与电气工程学院,江苏,常州,213002;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类制造工艺;
关键词
集成电路制造工艺; CMOS反相器; pMOS; nMOS;

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