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铜离子对镍在玻碳电极上电结晶行为的影响

     

摘要

利用循环伏安法和恒电位阶跃技术,研究浓度为0.01 mol/L 铜离子对镍在玻碳电极上电结晶行为的影响.研究结果表明:在含0.01 mol/L 铜离子的Watts镀液中,电位在-0.3 V左右出现铜的还原反应峰,当电位负移到-0.75 V时,镍开始结晶沉积;与纯Watts镀液(电位约-0.85 V)相比,铜离子的引入促进了镍的电结晶形核和生长,这是因为铜离子的存在降低了镍电结晶形核过电位;在含0.01 mol/L铜离子的Watts镀液中,电结晶过程仍基本遵循Scharifker-Hill模型,铜离子的引入并没有改变镍电结晶行为;高负电位下,金属离子的结晶成核方式遵循瞬时成核机制,低负电位下则趋向遵循连续成核机制.

著录项

  • 来源
    《中南大学学报(自然科学版)》|2010年第1期|144-149|共6页
  • 作者单位

    中南大学,材料科学与工程学院,有色金属材料科学与工程教育部重点实验室,湖南,长沙,410083;

    中南大学,材料科学与工程学院,有色金属材料科学与工程教育部重点实验室,湖南,长沙,410083;

    中南大学,材料科学与工程学院,有色金属材料科学与工程教育部重点实验室,湖南,长沙,410083;

    中南大学,材料科学与工程学院,有色金属材料科学与工程教育部重点实验室,湖南,长沙,410083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 金属复层保护;
  • 关键词

    电结晶; 形核; 循环伏安; 计时安培;

  • 入库时间 2023-07-25 11:18:07

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