CH_4,CH_3Cl,CHCl_2F,CF_4在0.8—2.0MeV^4He^+束流轰击下碳原子KLL俄歇电子产生率和化学环境的影响

摘要

实验测量了CH_4,CH_3Cl,CHCl_2F,CH_4在0。8—2。0MeV^4He^+束流轰击下碳原KLL俄歇电子产生率,结果表明产生率随碳原子化学环境的不同有明显的差别,CH_4和CHCl_2F,CF_4的俄歇电子产生率差异达30%以上。这种差异和非弹性散射修正或碳原子外层有效价电子校正结果均相符合,虽然前者符合可能稍好。测量结果显示可能存在其他因素或综合因素对产生率的影响。