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徐洪杰; 陈寿面; 杨国华; 潘浩昌; 朱德彰;
中科院上海原子核研究所;
壳层 Eu He MeV Nd Sm YbL L 物理机理 等离子体物理 离子注入;
机译:由0.4-2.0-MeV H +和He +离子以及0.6-1.2-MeV H-2(+)离子产生的B的绝对K壳电离截面测量
机译:用0.4-4.0 MeV质子和0.4-6.0 MeV氦离子产生和铀M壳X射线
机译:1-1.3 MeV质子对K壳,L壳和M壳X射线产生的横截面
机译:L-壳电离概率,具有低Z原子的MEV质子近中心碰撞
机译:0.4和铀M壳X射线产生的横截面,用于0.4–4.0 MeV质子,0.4–6.0 MeV氦离子,4.5–11.3 mev碳离子和4.5–13.5 MeV氧离子
机译:体外对290MeV / n碳离子和70MeV质子的人脊索瘤细胞杀伤力的比较
机译:1.86-meV / amu氟和硅离子以及1.8-meV / amu氯离子对靶L-壳电离的弹丸 - 电荷 - 状态依赖性
机译:1 meV质子在大散射角下的金L壳层电离概率
机译:锂离子二次电池用多孔膜组合物,带锂离子二次电池用保护层的隔板,带锂离子二次电池用保护层的电极,锂离子二次电池以及带锂离子二次电池用保护层的隔板
机译:用于锂离子二次电池的粘合剂组合物,用于锂离子二次电池的粘合剂,锂离子二次电池层浆,锂离子二次电池层,锂离子二次电池隔膜,锂离子二次电池
机译:粘合剂组合物用于锂离子二次电池,锂离子二次电池的粘合剂,浆料用于锂离子二次电池多孔层,锂离子二次电池多孔层,锂离子二次电池分离器,锂离子二次电池
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