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王英剑; 李庆国; 范正修;
中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;
电子束; 离子辅助; 离子束溅射; 薄膜特性;
机译:离子束参数对离子束溅射沉积二维光学薄膜厚度分布的影响
机译:离子束参数对离子束溅射沉积的二维光学薄膜厚度分布的影响
机译:电子束沉积,离子辅助沉积,反应性低压离子镀和双离子束溅射沉积的二氧化硅薄膜的抗激光损伤性
机译:用于光学薄膜离子束溅射工艺空间控制的精度三维建模
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:退火温度和氧气流量对离子束溅射SnO2-x薄膜性能的影响
机译:等离子体离子辅助电子束沉积的TiO2光学薄膜自动控制
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。
机译:通过受控离子束溅射沉积工艺制造的柔性高性能微辐射热检测器材料
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