加热罩对刀片CVD涂层质量影响的研究

摘要

CVD涂层设备反应炉温度由加热罩控制。在CVD设备上对加热罩的不同的温控参数和不同工艺设计的加热罩进行刀片涂层实验对比,研究其不同点对刀片涂层质量的影响。研究表明,温度PID参数影响涂层刀片产品的质量,温度波动太大将导致膜厚不均匀;加热罩工艺设计虽然在控温上合格后不一定直接影响涂层质量,却可能由于使用寿命不达标从而间接影响到刀片涂层质量。