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氧化气氛下铜红花釉的研制

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摘要

通过在基础釉中引入sic及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130～1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论分析了PbO、B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量.

著录项

来源
《佛山陶瓷》 |2002年第12期|8-10|共3页
作者
林营; 杨海波; 王芬;
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作者单位

陕西科技大学,712081;

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正文语种 chi
中图分类陶瓷工业;
关键词
氧化气氛; 复合还原剂; 铜红花釉;

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