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LPCVD设备的高精度串级温度控制系统

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摘要

在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响.主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h.

著录项

来源
《电子工业专用设备》 |2006年第4期|35-38|共4页
作者
宋玲; 廖炼斌; 张勇; 罗卫国;
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作者单位

中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;

中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;

中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;

中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;

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正文语种 chi
中图分类 TN304.055;
关键词
LPCVD; 串级控制; 温度控制;

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