中科院宁波材料所电场辅助连接技术研究获进展

摘要

中国科学院宁波材料技术与工程研究所特种纤维与核能材料工程实验室成功将电场辅助烧结技术（FAST）应用于碳化硅陶瓷连接领域，以60μm厚的钛硅碳（Ti3SiC2，TSC）流延膜为焊接层，在1300℃的低温下成功实现了SiC陶瓷的连接，四点弯曲强度可达80．4MPa，整个连接过程仅需15min。