自支撑Al滤光片的制备

摘要

分别以AZ50XT和聚乙烯醇为脱膜剂,在本底真空度为5.0×10^(-4) Pa的磁控溅射镀膜机中沉积Al膜,制备出厚度为80 nm的自支撑Al滤光片,并对滤光片进行表面缺陷分析。通过扫描电镜和CMOS相机观察得到,制备的Al滤光片表面均匀性较好,有少量针孔。对滤光片的光学性能进行了表征。用紫外可见分光光度计测得滤光片在可见光及红外光波段的透过率低于0.02%,基本满足使用要求。用软X射线透过率测试系统测得滤光片在1.6~10 keV能段的透过率高于90%,透过率曲线与理论结果基本一致,满足应用要求。用同步辐射装置测得两种滤光片在50~250 eV能段的最高透过率分别为53%和35%,受Al膜表面氧化和脱膜剂残留的影响,实际测得的透过率比理论计算值偏低。