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李美栓; 李铁藩;
中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀科学开放实验室;
单面氧化弯曲; 氧化膜; 应力公式;
机译:Zr / ZrO2系统的原位应力分析,通过拉曼光谱法和单面氧化技术的挠度测试研究
机译:原位显微拉曼光谱法用于表征在新表面上形成的氧化膜并测量在304L不锈钢上形成的氧化膜的应力
机译:挠曲法测量和使用蠕变分析或有限元建模计算得出的NiO膜中氧化生长应力的比较
机译:通过拉曼光谱法测量的应力分布通过氧化锆基合金氧化形成的氧化锆膜
机译:光学干涉测量法在硅基板上的二氧化硅膜中的平面内残余应力。
机译:三点弯曲法测试纳米多孔氧化铝膜的弯曲性能和断裂行为
机译:弯曲柔性显示基板上氧化铟锡(ITO)膜的应力分布
机译:美国1990年“清洁空气法”修正案中的氮氧化物控制技术要求与选定的环太平洋国家相比
机译:使用化学还原法和压力辅助热还原法的还原性氧化石墨烯膜的制备方法,由其制备的还原性氧化石墨烯膜和包括该还原性氧化石墨烯膜的石墨烯电极
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
机译:化学上稳定的烷基铝溶液氧化铝膜形成制品的化学水解铝烷基化物溶液的组成氧化铝膜的制备方法与电解制膜法一样,制备膜状氧化铝的方法
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