NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜的磁导率和巨磁阻抗比的研究

孙智勇; 赵志明; 董刚; 季勇; 郑鹉; 王艾玲; 姜宏伟

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用磁控溅射方法制备NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜;理论研究了多层膜巨磁阻抗效应与磁导率的关系;实验研究了NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构的磁导率和巨磁阻抗比。在驱动频率3MHz下Δμ′/μ′(%)出现800%的最大值,巨磁阻抗比出现14.4%的最大值。

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来源
《金属功能材料》|2008年第6期|10-13|共4页
作者
孙智勇; 赵志明; 董刚; 季勇; 郑鹉; 王艾玲; 姜宏伟;
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作者单位

西安工业大学数理系;

西安理工大学材料学院;

首都师范大学物理系;

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正文语种 chi
中图分类 O484.43;
关键词
巨磁阻抗; 磁导率; 多层膜;

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