二阶关联成像系统宽光谱吸收膜研制

摘要

为满足关联成像系统抑制背景的需求,选用Al、Cr和SiO2作为镀膜材料,依据薄膜吸收理论,结合膜系设计软件设计了宽光谱吸收膜,并采用真空沉积技术获得了该薄膜样品.通过真空阶梯式退火,减小了膜层内应力,解决了薄膜牢固度问题;采用交互式分析对测试结果逆向反演,通过优化工艺参量,使膜系中敏感薄层厚度得以精准控制,并减小了膜厚控制误差.制备的吸收膜在4001 100nm波段平均吸收率达到99.1%,满足系统使用要求.