乳牙牙釉质光密度与患龋状况的关系

摘要

目的　探讨乳牙牙釉质的光密度 (OD)与儿童患龋状况的关系 ,为早期发现龋病易感人群提供方法。方法　用Digora数字化X线摄影系统测量 3 2颗离体的正常上颌乳中切牙牙釉质的不同深度、不同轴面 (近中、远中、唇侧、腭侧面 )的光密度值 ,分组统计分析牙釉质光密度值及其与机体龋患程度的关系。结果　牙釉质浅层的光密度均值大于牙釉质深层的光密度均值 ;牙釉质全层的光密度均值在无龋组、低危组、高危组间差异有高度显著性 ;牙釉质远中面的光密度值在 3组间无差异 ;牙釉质深层的光密度均值与龋补牙数 (dft)呈中度相关(r =0 .67)。结论　光密度值作为矿化程度的一种间接表现形式与龋患程度具有一定的相关性 ,龋患程度重则牙釉质的光密度值低。因而光密度值可作为预测龋病易感性的一项参考指标。