MBO缓蚀膜中Cu的价态及成膜机制

摘要

用光电子能谱 (XPS)、红外光谱 (IR)和扫描隧道显微镜 (STM ) ,对Cu在含NaCl的 2 -琉基苯并唑(MBO)溶液中处理后 ,其表面所形成的缓蚀膜进行了研究 .缓蚀膜的Cu2 p3/2 结合能值为 932 .3eV ,在Cu2 p3/2 和Cu2p1/2 之间没有“卫星峰”存在 ,且俄歇峰CuLMM的结合能为 337.6eV ,表现了典型的一价Cu化合物的特征 .该缓蚀膜的红外光谱与MBO的一价Cu的合成化合物的红外谱图相一致 .在形成缓蚀膜前后 ,N1s和S2 p的结合能变化显著 ,表明MBO分子可能通过S和N原于与一价铜离子键合的 .原位的STM表明 ,Cl-的存在可使MBO在Cu表面形成致密的三维膜 .对MBO缓蚀膜的形成机理进行了分析 ,解释了在MBO缓蚀膜形成过程中Cu腐蚀电位的变化 .