电化学人工龋的电化学腐蚀机制研究

摘要

目的　研究电化学人工龋的电化学腐蚀机制。方法　采用循环伏安法研究牙片电极在K2 SO4 溶液中的氧化还原反应 ;以失重法并结合SPSS统计软件统计分析 ,评价牙片在KCl和K2 SO4 介质中恒电位腐蚀情况 ,并现场监测电解液氢离子浓度的变化情况。结果　在 0 0～ 2 5V电位范围内 ,牙片电极与石墨电极具有波形类似的循环伏安曲线 ;在KCl和K2 SO4 介质中牙片的腐蚀速度无显著差异 ;2 0V恒电位腐蚀牙片 8h后 ,阳极池本体溶液pH值由 7 0平均下降到 3 87,阴极池则由 7 0平均升高到 1 0 65。结论　在外电场作用下 ,牙片的阳极腐蚀与介质无关 ;水的阳极氧化引起阳极区氢离子浓度升高 。