氧化-还原挥发工艺从含锗电解铁中提锗

摘要

考察了含锗电解铁粉经 HCl、H_2SO_4、H_2O 处理自然氧化后,在氮气,空气,真空及强、弱还原气氛中锗的挥发性能。结果表明,在温度高于950℃的真空和弱还原性气氛中,锗能获得良好的挥发效果。而在同一温度下经不同介质处理自然氧化的铁粉,其锗的挥发效果顺序为 HCl>H_2SO_1>H_2O>不处理。用 H_2O 处理自然氧化的铁粉制成直径为10～15mm 的小球,在1050℃下进行锗的还原挥发,同样有良好的挥发效果。经比较,提出并选择了实现工业化的原则流程。