TiSiO非晶结构光学薄膜的性能调控机理研究进展

摘要

Ti SiO复合薄膜的制备方法主要包括溶胶-凝胶、物理气相沉积和化学气相沉积等,针对不同制备工艺条件下SiO2改性Ti O2的微观结构与光学参量的调控机理的研究,仍处于探索阶段。综述了近年来国内外在不同工艺条件下沉积的Ti SiO薄膜的结构和光学性质,从溶胶体系和热处理工艺两方面,对溶胶-凝胶工艺制备的Ti SiO薄膜展开论述,分别归纳了溶胶体系和热处理工艺调控Ti SiO薄膜的结构和光学性质的一般规律;从溅射工艺和蒸发工艺两方面对物理气相沉积工艺制备的Ti SiO薄膜展开论述,分别阐述了在溅射工艺和蒸发工艺过程中,调控Ti SiO薄膜的结构和光学性质的一般规律;从低(常)压化学气相沉积和等离子增强化学气相沉积等方面,对化学气相沉积工艺制备的Ti SiO薄膜展开论述,分别阐述了在不同化学气相沉积技术中,通过调节一些重要参数调控薄膜结构和性能的一般规律。总结了不同工艺制备并调控Ti SiO薄膜的一般规律的内在联系,并指出了这类薄膜制备工艺存在的问题和后续的研究方向。