氢化锆表面原位氧化法制备氢渗透阻挡层的研究

摘要

采用原位氧化法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了工艺参数对氧化层生长的影响,借助XRD,XPS,SEM等分析测试手段对氧化层的物相组成和截面形貌进行分析,并对氧化层的阻氢效果进行检测。结果表明,氧化层的质量增量随氧化温度的升高而增大,在氧分压为0.1MPa,550℃恒温氧化2h的工艺条件下,在氢化锆表面制得了厚度为50～60μm的氧化层;该氧化层主要为Baddeleyite结构的ZrO2;氧化层中含有O,Zr,C等元素并存在O—H键;氧化层均匀、致密,具有一定的阻氢作用。