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陈幼松;
北京理工大学;
半导体; 原子层; 外延技术; 异质薄膜;
机译:通过逐层原位原子层退火技术对AlN超薄膜进行低温原子层外延
机译:先进的外延生长技术:原子层外延和迁移增强外延
机译:半导体小型化技术的现状与未来展望:描绘半导体未来的超紫外光(EUV)曝光光源
机译:“ R2R原子层沉积技术的现状与展望”
机译:II-VI半导体薄膜化学驱动原子层外延的表面化学原位研究
机译:逐层原位原子层退火法制备AlN超薄膜的低温原子层外延
机译:用原子层外延技术生产Inn半导体膜。
机译:IV族半导体生长中原子层外延窗的动力学建模
机译:通过原子层外延生长化合物半导体外延层的方法
机译:原子层外延装置和原子层外延
机译:制造具有在沉积室中具有外延层的半导体晶片的方法,用于制造具有外延层的半导体晶片的装置,以及具有外延层的半导体晶片
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