保护地黄瓜叶片光合作用温度特性的研究

摘要

2年试验结果表明,保护地黄瓜叶片净光合速率的变化范围在9～22μmolCO_2m^(-2)s^(-1)之间。光合作用的最适温度为25～33℃;光合作用的温度下限为3～6℃;上限为42～44℃。黄瓜叶片光合作用对温度的反应受生长期间温度条件的影响,昼温为36℃下生长的叶片比28℃下生长的叶片表现为较高的耐高温特性。完全展开10天以内的叶片不仅光合速率高,对温度变化的反应也敏感;衰老(完全展开20天后)的叶片不仅光合速率低,对温度变化的反应也不敏感。 在低温条件下,黄瓜叶片的呼吸作用以及光合作用的光补偿点和光饱和点均较低,并随着温度的增加而增加。但光饱和点达到光合适温后不再增加,超过40℃时呼吸作用开始下降。叶片表观量子产额及光合与呼吸CO_2交换的比值在不同温度条件下呈单峰曲线变化,其峰值的温度低于或接近25℃。