新型非离子型聚合物对胶体SiO_2垢抑制作用的研究

摘要

工业水处理中,原水中硅含量过高会导致胶体SiO2垢的形成,硅垢一旦形成便难以去除,给工业生产带来许多隐患。研究了一种新型非离子聚合物TJ-SI0Ⅱ对胶体SiO2垢沉积的影响,并与传统有机膦阻垢剂(包括PBTC、EDTMP、HEDP、DTPMP、ATMP、PAPEMP和HDTMP)进行对比试验,结果表明,TJ-SI0Ⅱ是一种优良的硅垢阻垢剂,而传统有机膦药剂对胶体SiO2垢沉积基本无抑制作用。