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用人工神经网络优化Ni-纳米TiN复合镀层的超声-电沉积工艺

         

摘要

在正交实验的基础上,运用人工神经网络优化超声-电沉积工艺制备Ni-纳米TiN复合镀层。并利用扫描探针显微镜(SPM)对复合镀层的表面形貌进行观察。结果表明,运用人工神经网络优化的最佳工艺条件为:纳米TiN粒子的浓度7.5g/L、电流密度5A/dm2、脉冲电流占空比3:2、表面活性剂浓度80mg/L、超声功率250W。采用该工艺条件制备的Ni-纳米TiN复合镀层结构细密,晶粒较小,平均粒径约为80nm,其表面粗糙度Rms可达到14.6nm。

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