微细加工技术与设备

摘要

TN305.7 2000021426激光直写邻近效应的校正=Optical proximity correctionin laser direct writing[刊,中]/杜惊雷,黄奇忠,姚军,张怡霄,郭永康(四川大学物理系.四川,成都(610064)),邱传凯(中科院光电所微细加工光学技术国家开放实验室.四川,成都(610209)),崔铮(英国卢瑟福国家实验室)//光学学报.-1999,19(7).-953-957邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素,它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因,指出它和电子束直写及投影光刻的区别。