氧化铁选择透明掩模的制备及应用

摘要

本文描述了在氧化性气氛中,用低温热分解并氧化五羰基铁的方法,在经过仔细清洁处理的玻璃衬底上形成1500～2000埃厚的彩色氧化铁膜,采用普通的光刻技术容易获得线宽为1～2微米的选择透明掩模。该种掩模无论制备还是质量,均较目前仍广泛使用的乳胶掩模、铬掩模优越,值得指出的是在汽相沉积中如何克服五羰基铁的毒性及在使用该类掩模中防止和消除图形边缘的沾污则是全面推广急待解决的课题。