示踪法优选半导体清洗剂

摘要

＜正＞一、前言 在半导体器件生产工艺中,硅片的清洗是一个相当重要的环节,对成品的合格率是有很大影响的。硅片上的污染可分为有机物、金属离子和金属原子等。对于硅片的清洗,一般使用腐蚀性较强的酸、碱等。本工作是采用无腐蚀性的表面活性剂,对硅片进行清洗。其清洗机理,主要是通过表面张力差异,去除液体的排代作用达到清洗的目的。我们从79年开始选用了多种表面活性剂进行多种实验,从而选出了合适的清洗剂。并在半导体器件的生产工艺中得到了验证。