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氢氟酸与氮化硼源扩散

         

摘要

本文叙述的是我们在TTL数字集成电路的浓硼隔离扩散时,硅片上产生的一种“白雾”现象的实验结果,并对产生“白雾” 的成因机理进行探讨,最后提出了解决“白雾”的工艺方法.

著录项

  • 来源
    《半导体技术 》 |1980年第2期|23-30|共8页
  • 作者

    林鹤;

  • 作者单位

    杭州无线电二厂;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
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