TP—83椭圆仪的某些应用

摘要

本文用TP-83型椭圆仪给出了硅器件工艺的若干重要数据:如硅片清洗后不同烘干方法的自然氧化层厚度;二氧化硅及其掺磷时的浓度与工艺条件对膜层折射率的影响等.文中用测量数据证明了在200A以内薄层时,取近Brewster角为方位角可以提高测量精度.最后还介绍了用TP-83椭圆仪可以同时输入两组不同角度的（?）、△值,而得到膜层的绝对厚度.