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卢建红; 邓小梅; 阎建辉; 涂继国; 王明涌; 焦树强;
北京科技大学钢铁冶金新技术国家重点实验室;
北京100083;
北京化工大学常州先进材料研究院;
常州213164;
湖南理工学院化学化工学院;
岳阳414006;
材料表面与界面; 化学镀铜; 表面活性剂; 聚乙二醇6000; 混合电位; 晶面择优取向;
机译:研究次氮基三乙酸三钠作为络合剂对铜,锡和锌共沉积,形态,化学成分和电沉积结构的影响
机译:吉布斯能量函数与铝铜二元体系中的空位络合物
机译:萃取剂二元混合物与二氯化锡体系中的铜(II)的界面络合
机译:用Cu-EDTA络合浴对PVD铜和锡的电化学沉积铜的研究
机译:表面活性剂对巨大的磁阻钴铜多层体系的生长和界面结构的影响。
机译:单一和二元体系中阳离子表面活性剂和两性离子表面活性剂改性蒙脱土上酚和铜(II)的吸附
机译:鲁米诺 - 铜 - 过氧化氢体系化学发光催化反应研究。 II。光电法研究铜浓度的影响
机译:铜(I)氨基甲酸酯和胍盐,混合配体铜络合物以及化学气相沉积,原子层沉积和快速气相沉积铜的组合物
机译:聚缩醛作为络合剂用于化学沉积铜的方法以及化学沉积铜的方法。
机译:聚缩醛作为络合剂在铜的化学沉积中的用途以及铜的化学沉积方法
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