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孙三军; 李浩列; 邢源泉; 郭星廷; 申曙光;
山西大地环境资源有限公司;
太原理工大学;
中国石化齐鲁石化公司;
固定床; 半焦; 气氛; 干馏层; CO_(2)气化活性; 比表面积; 化学结构;
机译:H_2O / CO_2气氛下冶金焦的气化反应性和结构演变
机译:基于应变散装活性层的应变松弛对半导体光放大器的影响埋藏异质结构
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机译:反射掩模,用于使用极端UV或软X射线对半导体晶片进行结构化处理,其基板具有反射层,吸收层和蚀刻选择材料的硬掩模
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