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离子注入法在稀土发光研究中的应用

         

摘要

<正> 离子注入法是半导体掺杂工艺中的一种极重要手段。即是在真空中将填加粒子离子化,并经静电高能加速后注入到固体基板上。这一方法,自七十年代初期从半导体工艺中移植出来后,已被广泛用于各种非半导体材料的改性、合成等方面,特别是在表面化学研究中获得了显著进展。离子注入法用于发光研究是一个正在被开拓的新领域,用于稀土发光研究更是一种

著录项

  • 来源
    《稀土》 |1985年第4期|65-71|共7页
  • 作者

    石春山; 高桥胜绪;

  • 作者单位

    中国科学院长春应用化学研究所;

    日本理化学研究所;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
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