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Effect of Zn Interstitials on Enhancing Ultraviolet Emission of ZnO Films Deposited by MOCVD

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^10F;中国物理快报：英文版

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来源
《中国物理快报：英文版》 |2010年第9期|P.147-150|共4页
作者
钟泽; 孙利杰; 陈小庆; 邬小鹏; 傅竹西;
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作者单位

Department;

of;

Physics;

University;

of;

Science;

and;

Technology;

of;

China;

Hefei;

230026;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类碳C;
关键词
化学气相沉积法; 氧化锌; MOCVD; ZnO薄膜; 紫外发射; 填隙; Si（111）; 紫外线辐射;

机译：化学气相沉积法;氧化锌;MOCVD;ZnO薄膜;紫外发射;填隙;Si（111）;紫外线辐射;

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