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【24h】

Protection of isolated and active regions in AlGaN/GaN HEMTs using selective laser annealing

机译:使用选择性激光退火保护AlGaN / GaN Hemts中的隔离和活动区域

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    《中国物理:英文版》 |2021年第9期|550-557|共8页
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    College of Electrical Engineering Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

    Hangzhou Innovation Center Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

    College of Electrical Engineering Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

    Hangzhou Innovation Center Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

    College of Electrical Engineering Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

    Ningbo Chipex Semiconductor Co. LTD. Ningbo 315000 China;

    College of Electrical Engineering Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

    Hangzhou Innovation Center Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

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