The modulation of Schott ky barrier height of NiSi-Si Schottky diodes by silicide as diffusion source technique

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• 来源
  《中国物理：英文版》 |2009年第10期|4465-4469|共5页
• 作者

  An Xia; Fan Chun-Hui; Huang Ru; Guo Yue; Xu Cong; Zhang Xing; Wang Yang-Yuan;

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• 作者单位

  北京大学;

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• 收录信息 中国科学引文数据库(CSCD);中国科技论文与引文数据库(CSTPCD);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类
• 关键词