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LiF修饰阴极的双层有机电致发光器件的延时效应

         

摘要

基于载流子的注入、传输和复合过程, 建立了双层有机发光器件的电致发光延时理论模型;讨论了电致发光延时随电压、注入势垒、内界面势垒、阳极区厚度及LiF缓冲层(BL)厚度的变化关系. 结果表明:(1)低电压下,EL延时由复合过程主导,而高电压下,输运过程起着更重要的作用;(2)当δ_e/δ_h<2时,M/O界面属于欧姆接触,电流是空间电荷限制的,注入势垒的变化对复合时间t_(rec)影响较大,当δ_e/δ_h>2时,M/O界面成为接触限制,注入势垒的变化对t_(rec)几乎没有影响;(3)当内界面势垒超过0.3 eV,H′ _h对t_(rec)的影响明显变弱,复合延迟时间基本上由电压和其它因素控制;(4)当电压较小时,随L_h/L的增大,t_(rec)增大;当电压超过某一值后,t_(rec)几乎不随L_h/L的变化而变化;(5)对于LiF/Ag阴极,在不同的偏压下, LiF的厚度在3.1 nm左右时的复合时间最短,对应的EL延迟时间也最短,这与实验中从电致发光效率的角度得出的LiF最佳厚度一致.

著录项

  • 来源
    《发光学报》 |2010年第1期|17-24|共8页
  • 作者单位

    中南大学,物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083;

    中南大学,物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083;

    中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;

    中南大学,物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083;

    中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;

    中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN383.1;TN873.3;
  • 关键词

    电致发光延时; 注入势垒; 内界面势垒; LiF修饰;

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