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卜忍安; 张; 军; 张劲涛;
西安交通大学电子物理与器件研究所陕西西安 710049 E-mail:bura@xjtu.edu.cn;
PDP; 曝光台; 照度分布; 感光域;
机译:蒙特卡罗技术研究电子束/极紫外平版印刷中曝光剂量对潜像线边缘粗糙度的依赖性
机译:自我报告的工作曝光矩阵(JEM Constances)与基于专业知识的作业曝光矩阵(制造)的比较,用于生物力学曝光
机译:熔融碱金属多金属磷酸盐通量中的钯化学-K4PD(PS4)(2),CS4PD(PS4)(2),CS10PD(PSE4)(4),KPDPS4,K2PDP2S6和CS2PDP2SE6的合成和表征
机译:露出曝光汽车体宽宽高绘制钢制造技术研究
机译:再制造环境下精益制造部署的社会技术研究。
机译:使用微压印技术研究制造微结构表面的生产极限
机译:制造商推荐的曝光持续时间与各种光固化单元中使用双轴弯曲强度和刮擦复合厚度确定的曝光持续性的比较
机译:模糊集理论在铍零件制造中曝光控制中的应用
机译:PDP滤膜,包括该PDP滤膜的PDP滤膜以及使用该PDP滤膜制造的PDP
机译:矩阵阵列基板的制造方法,矩阵阵列基板,液晶显示装置,用于数据电极的PDP的制造方法,用于PDP的数据电极和PDP
机译:双重曝光全息干涉技术研究巴斯德3材料的表面形变
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