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准分子激光亚半微米接触式光刻研究

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以193nmArF准分子激光作光源,在PMMA光刻胶上进行接触式光刻.在直接光消融和常规湿法显影两种条件下,均获得了0.3μm的光刻分辨率.

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来源
《中国学术期刊文摘》|2000年第11期|1438-1440|共3页
作者
黄惠杰; 路敦武; 杜龙龙; 赵永凯; 袁才来; 蒋宝财; 王润文;
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作者单位

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

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中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

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正文语种 chi
中图分类物理学;
关键词
准分子激光; 接触式光刻; 直接光消融;

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